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國產立式快速退火爐 8寸真空，RTP800V，使用多溫區控溫，可通過APP界面調節溫度均勻性。優秀的光源冷卻系統確保光源壽命達到國際水平。科學的波長分布保證半導體材料可有效吸收。

國產小型桌面式快速退火爐 4寸真空，RTP500SV，使用多溫區控溫，可通過APP界面調節溫度均勻性。優秀的光源冷卻系統確保光源壽命達到國際水平?？茖W的波長分布保證半導體材料可有效吸收。

國產小型桌面式快速退火爐 4寸非真空，RTP500Z，使用多溫區控溫，可通過APP界面調節溫度均勻性。優秀的光源冷卻系統確保光源壽命達到國際水平?？茖W的波長分布保證半導體材料可有效吸收。

TC-Wafer校準儀是一款專注晶圓溫場均勻性測量的儀器，適配市場上大多數主流廠家生產的RTP設備。

RTP-3系列快速退火爐，采用紅外輻射加熱及冷壁技術，可實現對實驗材料的快速升溫和降溫

AS真空快速退火爐，性能ZYUE，可搭配分子泵實現高真空下熱處理工藝。Z高溫度1500 ℃，Z快升溫速率200℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序，保證溫度不過沖，控溫精度準確。