MicroChem光刻膠是一種可塑性高分子（聚合物）材料，通過紫外線曝光進行化學反應形成圖案。光刻膠通常是涂覆在硅片或其他襯底表面的薄膜，其厚度可以從幾個納米到數百微米不等。刻蝕過程中，光刻膠起到保護襯底或已刻蝕部分不受刻蝕劑侵蝕的作用，從而形成所需的結構。
MicroChem光刻膠類別：
MicroChem生產多種類型的光刻膠，包括正/負光刻膠和超臨界流體光刻膠等。其中常用的是正/負光刻膠。
正/負光刻膠：正/負光刻膠基于光敏聚合物的化學反應類型不同，可以分為正光刻膠和負光刻膠。
正光刻膠是一種通過紫外線曝光后形成的高分子結構可控制的光刻膠。在曝光后，光刻膠中的光敏劑會引發聚合物鏈的交聯反應，從而使光刻膠變得更加耐刻蝕。在刻蝕過程中，未經曝光的部分被刻蝕走，而曝光部分則保留下來作為所需圖案的模板。
負光刻膠與正光刻膠相反，是一種通過曝光后形成無法刻蝕的區域的光刻膠。在曝光后，光刻膠中的光敏劑會引發聚合物鏈的斷裂反應，從而形成無法刻蝕的結構。在刻蝕過程中，僅經過曝光的部分被刻蝕走，未經曝光的部分則保留下來作為所需圖案的模板。
超臨界流體光刻膠：超臨界流體光刻膠是一種利用超臨界CO2作為溶劑的光刻膠。這種光刻膠具有更高的分辨率和更快的刻蝕速度，同時還能提供更好的剝離性能和更少的殘留物。
MicroChem光刻膠被廣泛應用于半導體、生物芯片、MEMS等行業。在半導體工業中，光刻膠通常用于制作集成電路（IC）的掩模圖案。在生物芯片中，光刻膠則被用于制造微流控芯片及用于生物檢測的光學生物芯片。在MEMS中，光刻膠則被用于制造微機械系統（如微型傳感器和執行器）。
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