NXQ8000系列掩膜曝光機全面滿足科學研究，工藝級生產等多領域的應用。*采用非接觸式100%標定系統，對晶圓和掩膜沒有傷害，大大提高間隙精度

　　非接觸式掩膜對準機maskaligner適合各種電子元器件，包括半導體，LED,LD,MEMS，傳感器等。

　　NXQ8000系列掩膜曝光機主要是用于光刻膠曝光。光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉移到晶圓片上。

　　光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經過顯影后被溶解，只留下未受光照的部分形成圖形而負膠卻恰恰相反，經過曝光后，受到光照的部分會變得不易溶解，經過顯影后，留下光照部分形成圖形。負膠在光刻工藝上應用早，其工藝成本低、產量高，但由于它吸收顯影液后會膨脹，導致其分辨率（即光刻工藝中所能開誠小圖形》不如正膠，因此對于亞微米甚至更小尺寸的加工技術，主要使用正膠作為光刻膠。

　　NXQ8000系列掩膜曝光機的清潔

　　所有石英燈管在封裝運輸前都會經過精心的清潔步驟。如果小心處理，(例如：燈管主體沒有指紋)，當打開包裝時即可使用。如果用雙手直接接觸燈管,則應用脫離子水或工業酒精稍稍浸濕紙巾，仔細擦拭燈管，再用干燥紙巾重新將燈管擦干。根據需要，還應定期清潔燈管及反射罩。尤其在當燈管表面沾有其它附著物時更應進行清潔。如果不能及時處理，將導致燈管過早失去透明性并會影響其工作效果。

　　以上便是今天關于NXQ8000系列掩膜曝光機可在多種領域中應用的全部分享了，希望對大家今后使用本設備能有幫助。