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當(dāng)前位置:首頁  >  技術(shù)文章

  • 2019

    4-9

    鈣鈦礦廣泛用于太陽能電池的開發(fā)。由于這些類型的太陽能電池具有良好的光伏性能,因此對它們進(jìn)行了系統(tǒng)的研究。鈣鈦礦薄膜的厚度和形態(tài)是影響太陽能電池性能的重要因素。特別地,人們發(fā)現(xiàn),當(dāng)鈣鈦礦的厚度小于400nm時,鈣鈦礦太陽能電池的效率很大程度上取決于薄膜厚度;而當(dāng)鈣鈦礦的厚度大于400nm時,效率則很大程度上取決于鈣鈦礦層的薄膜形態(tài)。在本應(yīng)用說明中,我們使用FR工具測量鈣鈦礦薄膜的厚度。測量方法:用于表征的樣品是兩種不同厚度的CH3NH3PbBr3鈣鈦礦薄膜,它們位于標(biāo)準(zhǔn)ITO/...

  • 2019

    2-25

    WS1000濕法刻蝕機(jī)適用于哪些工藝行業(yè)中WS1000濕法刻蝕機(jī)是由全白色聚丙烯構(gòu)造,可內(nèi)置任何旋涂機(jī)及顯影機(jī),排放簡便的入氮口和DI噴頭,如果需要單工的系統(tǒng),可選擇WS-1000M濕法刻蝕設(shè)備,WS1000濕法刻蝕機(jī)旋轉(zhuǎn)處理濕法設(shè)備可以被配置成測試模塊構(gòu)造,安裝簡便,易于拆卸,更便于操作者控制。WS1000濕法刻蝕機(jī)工作原理:WS1000濕法刻蝕機(jī)具有可編程閥,它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應(yīng)用的要求重復(fù)進(jìn)行,如沖洗(通常是去離子水或溶劑),然后干燥(通常是氮...

  • 2018

    10-29

    德國Diener等離子清洗機(jī)使用過程及其結(jié)合的技術(shù)應(yīng)用德國Diener等離子清洗機(jī)操作過程:人工將產(chǎn)品不停的放入流水線上,不停的傳送,直噴噴槍或旋轉(zhuǎn)噴槍不停的工作清洗產(chǎn)品表面,清洗一個產(chǎn)品大約需要12S,(清洗速度可根據(jù)流水線轉(zhuǎn)速可調(diào)節(jié),流水線轉(zhuǎn)速越快則效率越高)兩把風(fēng)槍清洗,故清洗一個產(chǎn)品只需要6S,提率,清洗完后自動流出,人工取出產(chǎn)品。等離子體是在氣體受到高能量放電時產(chǎn)生的:氣體分解成電子,離子,高度活性自由基,短波紫外光子和其他激發(fā)粒子。這些物質(zhì)當(dāng)被高能量放電激發(fā)時有效...

  • 2018

    10-26

    美國Tergeo系列臺式等離子清洗機(jī)為實(shí)驗(yàn)室、研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)部門提供性價比高的小型等離子清洗設(shè)備。Tergeo-EM等離子清洗機(jī)是為SEM/TEM樣品清洗應(yīng)用而設(shè)計(jì)。它取代了標(biāo)準(zhǔn)Tergeo等離子清洗機(jī)中的石英窗,采用不銹鋼適配器,可放入兩個不同品牌的TEM樣品桿,可將SEM樣品架放置在內(nèi)部石英板上進(jìn)行清洗。特點(diǎn):1)雙等離子源設(shè)計(jì)可滿足不同樣品的要求。間接模式足夠溫和,可以處理3nm超薄多孔碳網(wǎng)格。直接模式可以足夠強(qiáng),可以去除超過幾微米厚的有機(jī)污染層。直接/浸入式清洗模式...

  • 2018

    8-27

    3850壓實(shí)密度儀壓實(shí)密度與片比容量關(guān)系3850壓實(shí)密度儀原理:鋰離子動力電池在制作過程中,壓實(shí)密度對電池性能有較大的影響。通過實(shí)驗(yàn)證明,壓實(shí)密度與片比容量,效率,內(nèi)阻,以及電池循環(huán)性能有密切的關(guān)系。找出*壓實(shí)密度對電池設(shè)計(jì)很重要。一般來說,壓實(shí)密度越大,電池的容量就能做的越高,所以壓實(shí)密度也被看做材料能量密度的參考指標(biāo)之一。壓實(shí)密度不光和顆粒的大小、密度有關(guān)系,還和粒子的級配有關(guān)系,壓實(shí)密度大的一般都有很好的粒子正態(tài)分布??梢哉J(rèn)為,工藝條件一定的條件下,壓實(shí)密度越大,電池的...

  • 2018

    7-27

    德國Diener等離子清洗機(jī)可以處理各種形狀的樣品德國Diener等離子清洗機(jī)發(fā)生的反應(yīng)為物理反應(yīng),射頻等離子體發(fā)生的反應(yīng)既有物理反應(yīng)又有化學(xué)反應(yīng),微波等離子體發(fā)生的反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。超聲等離子體清洗對被清潔表面產(chǎn)生的影響大,因而實(shí)際半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。而超聲等離子則應(yīng)用于表面除膠、毛刺打磨等處理方面效果佳,典型的等離子體物理清洗工藝是在反應(yīng)腔體中加入氬氣作為輔助處理的等離子體清洗;氬氣本身是惰性氣體,等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應(yīng),而是...

  • 2018

    3-22

    NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)機(jī)械手機(jī)構(gòu)曝光系統(tǒng)NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)對準(zhǔn)工作臺:高精度薄型精密雙層三維對準(zhǔn)工作臺,采用交叉滾柱V形導(dǎo)軌副和θ向超薄軸承及中心滑塊結(jié)構(gòu),保證了工作臺的直線性和旋轉(zhuǎn)精度。NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)機(jī)械手機(jī)構(gòu):機(jī)械手采用直線導(dǎo)軌和滾珠絲杠結(jié)構(gòu),具有高的定位精度和重復(fù)精度。NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)上版架系統(tǒng):上掩模版的升降導(dǎo)軌選用THK可調(diào)分離型直線導(dǎo)軌,驅(qū)動采用高分辨率的數(shù)顯微分頭,從而保證兩掩模版的重復(fù)精度和定位精度。NXQ8000系列...

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